应用科学研究人员获得薄膜奖
csamar Clavero，应用科学系博士后助理研究员，被美国真空学会授予2008年度杰出青年研究员奖。Clavero的奖项由该学会薄膜部颁发，以表彰他与VMEC物理与应用科学副教授Ale Lukaszew在磁等离子体材料方面的工作。该奖项将于10月19日至24日在波士顿举行的AVS国际会议上颁发。Clavero和Lukaszew将金和钴结合在超薄薄膜中，努力获得具有最佳光学和磁性质的材料，用于生物传感器或其他纳米技术应用。“其中一个重要的方面是材料是薄膜形式，”Lukaszew说。“这需要专门的培训。您需要接受超高真空技术，薄膜生长和表征方面的培训。所以，这不仅仅是一个混合材料的问题；这是一个正确混合它们的问题，以便它们具有最佳的光学和结构特性。”他们正在研究的薄膜在20纳米范围内。“一纳米是一米的十亿分之一，”克拉维罗解释说。“一纳米就像三个原子重叠在一起。所以我们谈论的是只有几个原子厚的东西。”他们的工作有几个组成部分。大部分工作是在麦克格洛特林街大厅三楼的一个超高真空室里完成的，但他们在纽波特纽斯的应用研究中心也有一台仪器，由克拉维罗和卢卡舍夫小组的另外两名研究生j·斯库扎（J. Skuza）和k·杨（K. Yang）定制。这是一个激光驱动的设备，使研究人员能够记录非常非常精确的角度测量样品的光学特性。Clavero和Lukaszew不仅培育了钴金薄膜，还对其进行了表征——评估了其光学、结构、磁性和形态特性。除了佳博体育工作，Clavero还构建了这些薄膜的数学模型，努力生产出具有最佳特性的材料。Lukaszew解释说：“纳米技术中的许多想法都与寻找将材料限制在非常小的尺寸中产生的新特性有关。”“对于这种特殊的材料，我们关注的是等离子体——当光照射它时发生的能量振荡，以及这如何影响它的磁光特性。你正在寻找的效果发生在非常非常特定的材料厚度上。”
